材料工程實驗
Advanced Materials Labs.
| 節 | 週六 |
|---|---|
1 08:00–08:50 | 材料工程實驗 4 節連堂 |
2 09:00–09:50 | |
3 10:10–11:00 | |
4 11:10–12:00 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
(1) 培育學生材料相關實驗技術(真空系統、溫度控制等)。 (2) 訓練學生半導體元件之製備基本技術,使有實際之操作與元件測試經驗,以為未來之研究所需。
材料科學導論、電子材料或電子元件物理相關之學理知識
無備註
實驗助教連絡:工六館 EF707/704室,分機:55338 參考書籍:"真空技術與應用",行政院國科會,精密儀器發展中心,民國90年;"真空技術",蘇青森,東華書局,民國88年;HomePfeiffier-Vacuum OnlineKatalog.;A.A.R. Elshabini-Riad and F.D. Barrlow III, "Thin Film Technology Handbook", McGraW-Hill International, (1997);"Vacuum Physics and Technology", ed. by G.L. Weissler and R.W. Carlson, Academic Press, (1979);A. Roth, Vacuum Technology, North-Holland, (1976);"The Temperature Handbook", Omega International Co.
期中實驗報告(25%)、期末實驗報告(25%)、期末筆試考核(25%)及所完成之元件是否具備應有之電氣性質之實地操作考核(25%)為原始總分,並以實驗平時考核(助教及任課老師依學生之出席情形及平時表現對原始總分進行正負5分之調整)評定學期總分。
真空系統原理、組成與應用
(1) 真空系統架構 (2) 真空幫浦 (3) 真空度量測與真空計 (4) 薄膜鍍著系統
溫度控制原理與方法
(1) 溫度控制原理 (2) 溫度量測原理與溫計 (3) 溫度控制器架構與組裝
半導體元件原理與製程方法
(1) 傳輸線法(Transmission Line Method,TLM)原理 (2) p-n二極體元件原理 (3) 無塵室架構與使用規範
半導體元件(p-n二極體)製作
(1) 晶片清洗與準備 (2) 氧化與擴散 (3) 蝕刻技術 (4) 微影成像技術 (5) 金屬化與薄膜鍍著 (6) 電性量測
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | 實驗分組、實驗室環境與設施介紹、工安/環安/衛安規則、逃生路線等之講解 |
| 第 2 週 | 真空系統原理與系統組成 |
| 第 3 週 | 溫度控制原理與方法、薄膜蒸鍍技術 |
| 第 4 週 | 傳輸線法(Transmission Line Method,TLM)量測金屬-半導體接觸特徵電阻原理、半導體元件原理與製程方法 |
| 第 5 週 | TLM法:晶圓清洗與準備 |
| 第 6 週 | TLM法:黃光/微影成像技術 |
| 第 7 週 | TLM法:金屬鍍膜 |
| 第 8 週 | TLM法:I-V曲線量測/探針系統使用方法 |
| 第 9 週 | TLM法:金屬-半導體接觸特徵電阻分析 |
| 第 10 週 | 期中考核:TLM法電性量測與期中報告 |
| 第 11 週 | p-n二極體元件製作示範及實作:晶圓清洗與準備 |
| 第 12 週 | p-n二極體元件製作示範及實作:氧化與擴散 |
| 第 13 週 | p-n二極體元件製作示範及實作:蝕刻技術 |
| 第 14 週 | p-n二極體元件製作示範及實作:微影成像技術 |
| 第 15 週 | p-n二極體元件製作示範及第二次實作:電路金屬化技術 |
| 第 16 週 | p-n二極體元件製作示範及實作:二極體元件電性量測技術 |
| 第 17 週 | 二極體元件電性量測實地操作考核 |
| 第 18 週 | 期末筆試考核/期末報告繳交與總評量 |
(自編講義)
- 地點
- 工六館,EF311
- 時間
- 星期三上午11-12時
- 聯絡方式
- 分機:55306 e-mail:tehsieh@cc.nctu.edu.tw