材料工程實驗(二)
Advanced Materials Labs.(II)
| 節 | 週六 |
|---|---|
5 13:20–14:10 | 材料工程實驗(二) 4 節連堂 |
6 14:20–15:10 | |
7 15:30–16:20 | |
8 16:30–17:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
(1)培育學生材料相關實驗技術(真空系統、溫度控制等)。 (2)訓練學生半導體元件之製備基本技術,使有實際之操作與元件測試經驗,以為未來之研究所需。
材料科學導論、電子材料或電子元件物理相關之學理知識
無備註
實驗助教:田宗正、戴國倫、黃智揚、曾奕棠、羅宏洋 (工六館 EF601/607/707室,分機:55346) 參考書籍:"真空技術與應用",行政院國科會,精密儀器發展中心,民國90年;"真空技術",蘇青森,東華書局,民國88年;HomePfeiffier-Vacuum OnlineKatalog.;A.A.R. Elshabini-Riad and F.D. Barrlow III, "Thin Film Technology Handbook", McGraW-Hill International, (1997);"Vacuum Physics and Technology", ed. by G.L. Weissler and R.W. Carlson, Academic Press, (1979);A. Roth, Vacuum Technology, North-Holland, (1976);"The Temperature Handbook", Omega International Co.
期中實驗報告(30%)、期末實驗報告(30%)及所完成之元件是否具備應有之電氣性質之操作考核(40%)為評分基礎,並以實驗平時考核(助教及任課老師依學生之平時表現對原始總分進行正負5分之調整)評定學期總分。
溫度控制原理與方法
(1) 溫度控制原理 (2) 溫度量測原理與溫計 (3) 溫度控制器架構與組裝
半導體元件原理與製程方法
(1) 傳輸線法(Transmission Line Method,TLM)原理 (2) p-n二極體元件原理 (3) 無塵室架構與使用規範
半導體元件(p-n二極體)製作
(1) 晶片清洗與準備 (2) 氧化與擴散 (3) 蝕刻技術 (4) 微影成像技術 (5) 金屬化與薄膜鍍著 (6) 電性量測
真空系統原理、組成與應用
(1) 真空系統架構 (2) 真空幫浦 (3) 真空度量測與真空計 (4) 薄膜鍍著系統
教師未提供此項資料
(自編講義)
- 地點
- 工程六館 329室
- 時間
- 星期三下午1:30~3:30 星期五早上10:00~12:00
- 聯絡方式
- 分機 55395
