奈米製造與量測技術
Nanofabrication and Characterization
| 節 | 週四 |
|---|---|
2 09:00–09:50 | 奈米製造與量測技術 EF201（光復） 3 節連堂 |
3 10:10–11:00 | |
4 11:10–12:00 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
目前業界的奈米製程已經到7 nm以下之水準,本課程介紹基本的奈米製造及量測技術,特別會著重在奈米製程之新技術,以使同學瞭解業界的製造技術與趨勢,未來並可以應用在其他需要奈米製程之產業上。
普通物理及普通化學 上課教室工六館201室
無備註
使用筆記型電腦與投影機。 奈米製造影片學習。
共三次考試(3x31%=93%),出席率7%。
教師未提供此項資料
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Chap 1. Trend of industrial nanofabrication 9/12 |
| 第 2 週 | Chap 2. Basic processes for industrial nanofabrication 9/19 |
| 第 3 週 | Chap 2. Basic processes for industrial nanofabrication 9/26 |
| 第 4 週 | Chap 3. Material and tool for optical submicron-scale fabrication 10/3 |
| 第 5 週 | National holiday 10/10 |
| 第 6 週 | Chap 3. Material and tool for optical submicron-scale fabrication 10/17 |
| 第 7 週 | Chap 4. Material and tool for optical nano-scale fabrication 10/24 |
| 第 8 週 | EXAM I (chapter 1-4) 10/31 |
| 第 9 週 | Chap 5. Principle and RET for optical lithography 11/7 |
| 第 10 週 | Chap 5. Principle and RET for optical lithography 11/14 |
| 第 11 週 | Chap 6. Optical liquid immersion nanofabricationn 11/21 |
| 第 12 週 | Chap 7. Optical extreme ultraviolet nanofabricatio Chap 8. Photomask and reticle fabrication 11/28 |
| 第 13 週 | EXAM II (chapter 5-8) 12/5 |
| 第 14 週 | Chap 9. Gaussian electron beam nanofabrication 12/12 |
| 第 15 週 | Chap 10. Electron projection nanofabrication 12/19 |
| 第 16 週 | Chap 11. Nanoimprinting nanofabrication 12/26 |
| 第 17 週 | Chap 12. Etching technique 1/2 |
| 第 18 週 | EXAM III (chapter 9-12) 1/9 |
以下書籍僅供參考,上課使用自編講義,內容均來自業界資料及最新的期刊與科技報導。 (1) Alfred. K. Wong, Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography, SPIE (2001). (2) Michael Quick and Julian Serda, Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall (2001). (3) H. Xiao, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall (2001). (4) Ralph Dammel, Diazonaphthoquinone-based Resists, SPIE (1993). (5) Harry J. Levinson, Principles of Lithography, SPIE (2001). (6) 自編講議
- 地點
- 工程六館357室
- 時間
- 週四下午1:30-2:30
- 聯絡方式
- NCTU extension 55803