電子顯微鏡學
Transmission Electron Microscopy
| 節 | 週三 | 週五 |
|---|---|---|
3 10:10–11:00 | 電子顯微鏡學 EF201（光復） 2 節連堂 | |
4 11:10–12:00 | ||
5 13:20–14:10 | 電子顯微鏡學 EF201（光復） |
* 根據陽明交大上課時間表所列
從電子與固體相互之物理作用等基礎,了解電子顯微鏡影像與繞射圖型形成、化學組成量測在材料內部微區結構及原子尺度結構分析之原理。 學習目標: 1. 如何解釋影像對比所代表之意義;2. 如何分析繞射圖形並擷取其中之訊息;3. 如何正確研判X-RAY EDS與EELS之能譜及其定量分析。
普通物理(含原子結構與物理)、材料科學導論、微積分、工程數學(微分方程、傅立葉轉換、向量分析) 需具有晶體結構之基礎(含point group、space group)等 如修習過近代物理或固態物理更佳。
無備註
免費軟體 ImageJ (NIH)、VESTA 、DigitalMicrograph (Gatan)、NIST DTSA-II X-ray EDS 模擬軟體 American Mineralogist Crystal Structure Database 付費軟體 CrystalMaker
學期作業(30%)、考試(60%)、評量(比重10%)
教師未提供此項資料
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | - INTRODUCTION - ELECTRON SOURCES、 - LENS AND FOCUS 3/4 3/6 |
| 第 2 週 | - ELECTRON SCATTERING, - - SCANNING ELECTRON MICROSCOPY 3/11 3/13 |
| 第 3 週 | - SCANNING ELECTRON MICROSCOPY - TEM MICROSCOPE 3/18 3/20 |
| 第 4 週 | DIFFRACTION 3/25 3/27 |
| 第 5 週 | TEM DIFFRACTION 4/1 |
| 第 6 週 | TEM DIFFRACTION - SELECTED AREA DIFFRACTION - CONVERGENT BEAM DIFFRACTION - NANOBEAM DIFFRACTION 4/8 4/10 |
| 第 7 週 | - IMAGING THEORY - TEM IMAGING MODE BRIGHT FIELD AND DARK FIELD - MASS-THICKNESS CONTRAST 4/15 4/17 |
| 第 8 週 | DIFFRACTION CONTRAST 4/22 4/24 |
| 第 9 週 | 4/29 期中考 DIFFRACTION CONTRAST 4/29 5/1 |
| 第 10 週 | DIFFRACTION CONTRAST - STRAIN 5/6 5/8 |
| 第 11 週 | - PHASE CONTRAST - HIGH-RESOLUTION ELECTRON MICROSCOPY 5/13 5/15 |
| 第 12 週 | - SCANNING TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY - HIGH-ANGLE ANNULAR DARK FIELD IMAGING Z-CONTRAST 5/20 5/22 |
| 第 13 週 | - X-RAY ENERGY DISPERSIVE SPECTROSCOPY 5/27 5/29 |
| 第 14 週 | X-RAY ENERGY DISPERSIVE SPECTROSCOPY 6/3 6/5 |
| 第 15 週 | - X-RAY ENERGY DISPERSIVE SPECTROSCOPY - ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY 6/10 6/12 |
| 第 16 週 | ELECTRON ENERGY LOSS SPECTROSCOPY 6/17 6/19 |
| 第 17 週 | 期末考 6/24 |
| 第 18 週 | 作業解答 7/1 7/3 |
1. Transmission Electron Microscopy - A Textbook for Materials Science Authors: Williams, David B., Carter, C. Barry Springer 2009 2. Scanning Electron Microscopy and X-ray Microanalysis Fourth Edition Authors: Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W.M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy Springer 2018
- 地點
- 工程六館327室
- 時間
- 每星期三 下午4:30-5:10
- 聯絡方式