奈影精要
Essence of Nanolithography
學期
109-1
學分
0
學分
當期課號
5405
永久課號
IEP5647
開課單位
電子物理學系
授課教師
林本堅
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週四 |
|---|---|
3 10:10–11:00 | 奈影精要 SC162（光復） 2 節連堂 |
4 11:10–12:00 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
1. Introduction of the innovations and opportunities in nanolithography. 2. To widen the perspective in advanced semiconductor processing and scaling. 3. To develop innovative and analytic skills.
先修科目
Electromagnetics (I)(II)
備註
無備註
教學方式
教師未提供此項資料
評分方式
作業:30% 期中考試:30% 期末考試:40%
課程大綱
教師未提供此項資料
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Introduction 9/17 |
| 第 2 週 | Tool configurations 9/24 |
| 第 3 週 | Holiday (Mid-Autumn Festival) 10/1 |
| 第 4 週 | Proximity diffraction 10/8 |
| 第 5 週 | Scaling equations, E-D methodology 10/15 |
| 第 6 週 | Resist 10/22 |
| 第 7 週 | Overlay 10/29 |
| 第 8 週 | Overlay 11/5 |
| 第 9 週 | Fourier space, RET1-Off axis illumination 11/12 |
| 第 10 週 | Midterm exam 11/19 |
| 第 11 週 | RET2-Phase shifting mask 11/26 |
| 第 12 週 | RET3-OPC 12/3 |
| 第 13 週 | RET4-Polarized Illumination 12/10 |
| 第 14 週 | RET4-Polarized Illumination 12/17 |
| 第 15 週 | Immersion Lithography 12/24 |
| 第 16 週 | EUV Lithography 12/31 |
| 第 17 週 | EUV Lithography 1/7 |
| 第 18 週 | Final exam 1/14 |
教科書
Optical Lithography; Here is Why, Burn J. Lin, SPIE Press 2010
Office Hours
- 地點
- SC552
- 時間
- 4EFG
- 聯絡方式
- 分機:56108 (call before coming)