2 項進行中

115-1 選課時程

進行中

  • 初選第一階段 6/15 – 6/18
  • 初選第二階段 6/22 – 6/25
  • 校際選修 進行中 8/24 – 9/18
  • 初選第三階段 8/31 – 9/3
  • 開學後加退選 進行中 9/7 – 9/21
  • 逾期加退選 9/21 – 9/24
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雷射概論

Laser Concept

學期
110-2
學分
0 學分
當期課號
2881
永久課號
SET1354
開課單位
系統工程與科技學士學位學程
授課教師
曹亞嵐
類別
選修
上課時間表
週一
A
18:30–19:20
雷射概論
3 節連堂
B
19:30–20:20
C
20:30–21:20

* 根據陽明交大上課時間表所列

概述

本課程為介紹雷射原理及應用之基本課程,從雷射原理的介紹以及未來技術發展的趨勢,使學生能對雷射原理及應用工程技術有基本的整體概念。

先修科目

普通物理學、電子學

備註

無備註

教學方式

參考書:Introduction to Laser Technology, 4th Edition,2012年,C. Breck Hitz, James J. Ewing, Jeff Hecht,Wiley-IEEE Press,978-1-118-219485

評分方式

期中報告30%,期末報告30%,平時成績40%

課程大綱

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週次計畫
週次主題
第 1 週

導論

2/14
第 2 週

雷射產生的基本原理

2/21
第 3 週

光學諧振腔與雷射模式

2/28
第 4 週

高斯光束

3/7
第 5 週

雷射工作物質的增益特性

3/14
第 6 週

雷射源的工作特性

3/21
第 7 週

雷射特性的控制與改善

3/28
第 8 週

典型雷射源

4/4
第 9 週

期中考

4/11
第 10 週

半導體雷射源

4/18
第 11 週

光通信系統中的雷射源和放大器

4/25
第 12 週

雷射全像投影技術

5/2
第 13 週

雷射與物質的相互作用

5/9
第 14 週

雷射在其他領域的應用

5/16
第 15 週

光達

5/23
第 16 週

雷射發展趨勢與總結I

5/30
第 17 週

雷射發展趨勢與總結II

6/6
第 18 週

期末考

6/13
教科書

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