半導體製程設備概論
Introduction to Semiconductor Equipment
| 節 | 週五 |
|---|---|
A 18:30–19:20 | 半導體製程設備概論 EE324（光復） 3 節連堂 |
B 19:30–20:20 | |
C 20:30–21:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
教導學生使其掌握半導體製程設備系統及其構成模組之功能需求、系統分析、設計實務等技術。
物理學及電子學
無備註
教師未提供此項資料
平時表現及作業 40%、期中考30%、期末考30%
教師未提供此項資料
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | 半導體製造、設備產業及技術總論,暨Silicon Run 影片 2023-09-15(五) |
| 第 2 週 | 半導體製程設備發展及CMOS 元件介紹 2023-09-22(五) |
| 第 3 週 | 製程設備架構及集束型設備技術 2023-09-29(五) |
| 第 4 週 | 真空系統及元件技術 2023-10-06(五) |
| 第 5 週 | 設備高潔淨技術 2023-10-13(五) |
| 第 6 週 | 氣體傳送系統/元件暨電漿技術 2023-10-20(五) |
| 第 7 週 | 晶圓輸送系統及模組技術 2023-10-27(五) |
| 第 8 週 | 自動控制及設備連線控制技術 11/3(五) 2023-11-03(五) |
| 第 9 週 | 期中考 2023-11-10(五) |
| 第 10 週 | 設備電漿技術(I) 2023-11-17(五) |
| 第 11 週 | 設備電漿技術(II) 2023-11-24(五) |
| 第 12 週 | PECVD and PVD 2023-12-01(五) |
| 第 13 週 | 蝕刻設備 2023-12-08(五) |
| 第 14 週 | Furnace and RTP 2023-12-15(五) |
| 第 15 週 | 微影設備(I) 2023-12-22(五) |
| 第 16 週 | 微影設備(II) 2023-12-29(五) |
| 第 17 週 | 離子植入設備及CMP設備 2024-01-05(五) |
| 第 18 週 | 期末考 2024-01-12(五) |
1. Semiconductor Manufacturing Technology, M. Quirk and J. Serda, Prentice Hall, 2001. (有譯本,羅文雄等譯,滄海書局) 2. 半導體製造裝置,前田和夫著,鄭正忠譯,普林斯頓圖書,2003 3. 上課講義及指定文獻 參考書籍 1. VLSI製造技術,莊達人編著,第二版,2002。 2. Microchip Fabrication,Peter Van Zant,4th ed.,McGraw Hill,2000 (有譯本,姜庭隆譯,滄海書局,2001) 3. Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Hong Xiao, Prentice-Hall, 2000. (中譯本,羅正忠等譯,歐亞書局) 4. 半導體製程設備,張勁燕著,五南書局,2000 5. 微機電系統技術與應用,國科會精儀中心彙編,2003 6. 真空技術與應用,國科會精儀中心彙編,2001
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