半導體工程
Semiconductor Engineering
| 節 | 週一 |
|---|---|
5 13:20–14:10 | 半導體工程 ED301（光復） 3 節連堂 |
6 14:20–15:10 | |
7 15:30–16:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
本課程介紹半導體相關製程與先進設備元件,安排台積電新人訓練中心之 課程, 提供了兩天下午課程,供同學見習,和台積新進工程師同步掌握最先進的半導體設備元件實務。
無
無備註
lectures
Midterm exam 45% Final Exam 45% Attendance rate 10%
教師未提供此項資料
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology 2024-02-19(一),2024-02-22(四) |
| 第 2 週 | 對半導體先進設備 元件 有興趣的同學們看過來 ! 台積電新人訓練中心 ( 提供了兩天下午課程, 供同學見習,歡迎踴躍報名參加,和台積新進工程師 同步掌握最先進的半導體設備元件實務 (1)Plasma基礎原理與應用 (a)Plasma形成與電子碰撞介紹 (b)半導體製程應用 (2)Plasma 設計種類與特性 (a)CCP/ICP/DC/Downstream (b)介紹RF delivery system 基礎介紹 (3)RF傳輸與阻抗匹配 (a)實體操作 Plasma 變化觀察與真空電容檢測 2024-02-26(一),2024-02-29(四) |
| 第 3 週 | (1) Vacuum應用與基礎原理 (a)半導體製程真空應用 (b)Vacuum產生與系統介紹 (2)Pump 工作原理介紹 Dry Pump/Turbo/Cryo 原理 (a)Gauge 種類原理介紹 (b)Pirani/Convectron/Baratron/CCIG/HCIG 介紹 (3)實體操作 Vacuum 建立與測漏 2024-03-04(一),2024-03-07(四) |
| 第 4 週 | Introduction to IC Fabrication(1) 2024-03-11(一),2024-03-14(四) |
| 第 5 週 | Introduction to IC Fabrication(2) 2024-03-18(一),2024-03-21(四) |
| 第 6 週 | Wafer Manufacturing and Epitaxy Growing(1) 2024-03-25(一),2024-03-28(四) |
| 第 7 週 | Wafer Manufacturing and Epitaxy Growing(2) 2024-04-01(一),2024-04-04(四) |
| 第 8 週 | Wafer Manufacturing and Epitaxy Growing(3) 2024-04-08(一),2024-04-11(四) |
| 第 9 週 | 期中考 2024-04-15(一),2024-04-18(四) |
| 第 10 週 | Photolithography 2024-04-22(一),2024-04-25(四) |
| 第 11 週 | Thin Film Processing (CVD and PVD) 2024-04-29(一),2024-05-02(四) |
| 第 12 週 | Thin Film Processing (CVD and PVD) 2024-05-06(一),2024-05-09(四) |
| 第 13 週 | Etching Technology 2024-05-13(一),2024-05-16(四) |
| 第 14 週 | Ion Implantation 2024-05-20(一),2024-05-23(四) |
| 第 15 週 | Thermal Diffusion 2024-05-27(一),2024-05-30(四) |
| 第 16 週 | 期末考 2024-06-03(一),2024-06-06(四) |
Hong Xiao, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall
- 地點
- 工程四館 509 room
- 時間
- 1 hour before class
- 聯絡方式
- rayhua@nycu.edu.tw