積體電路技術(一)
Integrated Circuit Technology (I)
| 節 | 週二 | 週四 |
|---|---|---|
2 09:00–09:50 | 積體電路技術(一) ED220（光復） | |
5 13:20–14:10 | 積體電路技術(一) ED220（光復） 2 節連堂 | |
6 14:20–15:10 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
目標在於讓修課同學對下面課程重點有所瞭解與認知: (1) 積體電路製造之流程。 (2) 各種半導體製程與設備技術基本原理說明。 (3) 不同半導體製程間關聯性說明。 (4) 製程技術未來發展驅勢分析。 (5) 各種應用之製程要求與重點。
普物, 基礎化學
無備註
投影片教學
期中考一次(35%)。 期末考一次(35%)。 作業(小考)報告(20%)。 出席表現(10%)。
教師未提供此項資料
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Introduction Wafer preparation 2025-09-02(二),2025-09-04(四) 時數：[2025-09-02]林鴻志(1.00) |
| 第 1 週 | Introduction Wafer preparation 2025-09-02(二),2025-09-04(四) 時數：[2025-09-04]林鴻志(2.00) |
| 第 2 週 | Cleaning Oxidation 2025-09-09(二),2025-09-11(四) 時數：[2025-09-09]林鴻志(1.00) |
| 第 2 週 | Cleaning Oxidation 2025-09-09(二),2025-09-11(四) 時數：[2025-09-11]林鴻志(2.00) |
| 第 3 週 | Oxidation 2025-09-16(二),2025-09-18(四) 時數：[2025-09-16]林鴻志(1.00) |
| 第 3 週 | Oxidation 2025-09-16(二),2025-09-18(四) 時數：[2025-09-18]林鴻志(2.00) |
| 第 4 週 | Oxidation 2025-09-23(二),2025-09-25(四) 時數：[2025-09-23]林鴻志(1.00) |
| 第 4 週 | Oxidation 2025-09-23(二),2025-09-25(四) 時數：[2025-09-25]林鴻志(2.00) |
| 第 5 週 | Lithography 2025-09-30(二),2025-10-02(四) 時數：[2025-09-30]林鴻志(1.00) |
| 第 5 週 | Lithography 2025-09-30(二),2025-10-02(四) 時數：[2025-10-02]林鴻志(2.00) |
| 第 6 週 | Lithography 2025-10-07(二),2025-10-09(四) 時數：[2025-10-07]林鴻志(1.00) |
| 第 6 週 | Lithography 2025-10-07(二),2025-10-09(四) 時數：[2025-10-09]林鴻志(2.00) |
| 第 7 週 | Lithography 2025-10-14(二),2025-10-16(四) 時數：[2025-10-14]林鴻志(1.00) |
| 第 7 週 | Lithography 2025-10-14(二),2025-10-16(四) 時數：[2025-10-16]林鴻志(2.00) |
| 第 8 週 | Lithography Midterm exam 2025-10-21(二),2025-10-23(四) 時數：[2025-10-21]林鴻志(1.00) |
| 第 8 週 | Lithography Midterm exam 2025-10-21(二),2025-10-23(四) 時數：[2025-10-23]林鴻志(2.00) |
| 第 9 週 | Plasma Fundamentals 2025-10-28(二),2025-10-30(四) 時數：[2025-10-28]林鴻志(1.00) |
| 第 9 週 | Plasma Fundamentals 2025-10-28(二),2025-10-30(四) 時數：[2025-10-30]林鴻志(2.00) |
| 第 10 週 | Plasma Fundamentals 2025-11-04(二),2025-11-06(四) 時數：[2025-11-04]林鴻志(1.00) |
| 第 10 週 | Plasma Fundamentals 2025-11-04(二),2025-11-06(四) 時數：[2025-11-06]林鴻志(2.00) |
| 第 11 週 | Plasma Fundamentals Etch 2025-11-11(二),2025-11-13(四) 時數：[2025-11-11]林鴻志(1.00) |
| 第 11 週 | Plasma Fundamentals Etch 2025-11-11(二),2025-11-13(四) 時數：[2025-11-13]林鴻志(2.00) |
| 第 12 週 | Etch 2025-11-18(二),2025-11-20(四) 時數：[2025-11-18]林鴻志(1.00) |
| 第 12 週 | Etch 2025-11-18(二),2025-11-20(四) 時數：[2025-11-20]林鴻志(2.00) |
| 第 13 週 | Etch 2025-11-25(二),2025-11-27(四) 時數：[2025-11-25]林鴻志(1.00) |
| 第 13 週 | Etch 2025-11-25(二),2025-11-27(四) 時數：[2025-11-27]林鴻志(2.00) |
| 第 14 週 | CVD 2025-12-02(二),2025-12-04(四) 時數：[2025-12-02]林鴻志(2.00) |
| 第 14 週 | CVD 2025-12-02(二),2025-12-04(四) 時數：[2025-12-04]林鴻志(1.00) |
| 第 15 週 | CVD 2025-12-09(二),2025-12-11(四) 時數：[2025-12-09]林鴻志(1.00) |
| 第 15 週 | CVD 2025-12-09(二),2025-12-11(四) 時數：[2025-12-11]林鴻志(2.00) |
| 第 16 週 | CVD Final Exam 2025-12-16(二),2025-12-18(四) 時數：[2025-12-16]林鴻志(1.00) |
| 第 16 週 | CVD Final Exam 2025-12-16(二),2025-12-18(四) 時數：[2025-12-18]林鴻志(2.00) |
| 第 17 週 | 2025-12-23(二),2025-12-25(四) |
| 第 18 週 | 2025-12-30(二),2026-01-01(四) |
1. 上課講義。 2. “Silicon VLSI Technology,” J. Plummer, M. D. Deal, and P.B. Griffin, Prentice Hall Inc. (2000). 3. “Semiconductor Manufacturing Technology,” M. Quirk and J. Serda, Prentice Hall Inc. (2001). 4. “Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology,” Xiao Hong, Prentice Hall Inc., New Jersey, USA (2001).
- 地點
- ED 646
- 時間
- 第一次上課時宣佈
- 聯絡方式
- hclin@nycu.edu.tw 電話: 54193