半導體雷射實驗
Diode Laser Laboratory
| 節 | 週二 |
|---|---|
7 15:30–16:20 | 半導體雷射實驗 ED201（光復） 2 節連堂 |
8 16:30–17:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
本課程介紹磊晶機台與各種材料檢測工具，並讓學生熟悉光波導、歐姆接面、晶片磨薄、鏡面切割等製程，接著訓練光強度與電壓對注入電流之曲線、雷射光譜、近場及遠場等量測儀器，最後要讓學生分組實際製作出邊射型半導體雷射、分析其元件光電特性並萃取基本元件參數。
a、學生必須已修畢或同時選修「半導體雷射」，了解元件工作原理及其光電特性。 b、限額15人，修課資格由開課老師自選修「半導體雷射」的學生中，根據未來研究之相關性決定。
無備註
由助教示範與訓練儀器，督導學生製作邊射型半導體雷射，並協助元件光電特性量測與分析。
儀器考核：60% 實驗報告：40%
教師未提供此項資料
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Atomic force microscopy (AFM) |
| 第 2 週 | Scanning electron microscope (SEM) & sample preparation |
| 第 3 週 | MBE system and epitaxial growth |
| 第 4 週 | Photo-luminescence (PL) spectra |
| 第 5 週 | Probe station & Current-Voltage measurement |
| 第 6 週 | Photo lithography |
| 第 7 週 | E-gun evaporation |
| 第 8 週 | Fabrication of ridge waveguides |
| 第 9 週 | Wafer thinning |
| 第 10 週 | Diamond scriber & mirror cleavage |
| 第 11 週 | Light-Current-Voltage characterization system (1/2) |
| 第 12 週 | Light-Current-Voltage characterization system (2/2) |
| 第 13 週 | Optical spectra analyzer & lasing spectra Collimation & fiber coupling |
| 第 14 週 | Measurement of far-field & near-field patterns |
| 第 15 週 | Optically pumped lasing emissions |
| 第 16 週 | Final Report |
使用自編講義。
- 地點
- 工程四館408室
- 時間
- 週二10:00~12:00
- 聯絡方式
- E-mail: graylin@nycu.edu.tw Tel: 03-5131289