光學微影與解析度增益技術

Optical Micro-lithography(OML) and Resolution Enhancement Techniques

學期

115-1

學分

3 學分

當期課號

535418

永久課號

EEEO30011

開課單位

電機資訊國際碩士學位學程、光電博士學位學程、電機資訊國際博士學位學程、光電工程學系

授課教師

余沛慈

校區

光復

類別

選修

上課時間表

節	週二
2 09:00–09:50	光學微影與解析度增益技術 EO105（光復） 3 節連堂
3 10:10–11:00
4 11:10–12:00

* 根據陽明交大上課時間表所列

概述

本課程希望藉由深入淺出的介紹，使學生與不同領域的專業人士能對光學微影製程與技術演進建立基本的瞭解，期能互相溝通與合作，將各自不同領域的專業能力應用於解決現今半導體微影製程之挑戰，並開創新的契機。

先修科目

無

備註

無備註

教學方式

1. 加入視訊會議，請於上課時間Tue. 10:10-12:00點選以下連結：meet.google.com/bex-uqqn-kjp 2. 請加FB 光學微影與解析度增益技術群組 https://www.facebook.com/groups/604143683263491/ 3. HW助教: 蘇聖翔

評分方式

Homework: 40% Final exam: 30% Project / Presentation: 30%

課程大綱

I. Introduction to Optical Microlithography

– Lithography Process Overview – Optical Exposure Systems – Diffraction, Fourier Optics, and the Aerial Image – DOF, MEEF, and Process Control
II. Resolution Enhancement Techniques (RET)

– Off-Axis Illumination (OXI) – Phase Shifting Masks (PSM) – Optical Proximity Correction (OPC) – Immersion, Multi-Mask Patterning, Inverse Lithography
III. Future Lithography Technologies

週次計畫

週次	主題
第 1 週	Chapter 0. Introduction to Semiconductor and Industry 2026-09-08(二)
第 2 週	Chapter 1. Introduction to Semiconductor Lithography 2026-09-15(二)
第 3 週	Chapter 2. Aerial Image Formation 2026-09-22(二)
第 4 週	Chapter 3. Optical Proximity Correction 2026-09-29(二)
第 5 週	Chapter 4. Resolution Enhancement Technologies (RETs) 2026-10-06(二)
第 6 週	Chapter 5. Next Generation Technology 2026-10-13(二)
第 7 週	Chapter 6. Introduction to Mask Making 2026-10-20(二)
第 8 週	Chapter 7. Photoresist 2026-10-27(二)
第 9 週	Chapter 8. Lithographic Control in Semiconductor Manufacturing 2026-11-03(二)
第 10 週	Chapter 9. Metrics of Lithography 2026-11-10(二)
第 11 週	Chapter 10. Inverse Lithography: IM / IS / SMO 2026-11-17(二)
第 12 週	2026-11-24(二)
第 13 週	2026-12-01(二)
第 14 週	2026-12-08(二)
第 15 週	2026-12-15(二)
第 16 週	2026-12-22(二)

教科書

Text book: 1. Chris A. Mack, Fundamental Principles of Optical Lithography, (c) 2007 e-BOOK: http://onlinelibrary.wiley.com/book/10.1002/9780470723876 Reference: 2. Burn Lin : Optical Lithography: Here is Why e-book (NCTU access): https://www.spiedigitallibrary.org/ebooks/PM/Optical-Lithography-Here-Is-Why/eISBN-9780819481825/10.1117/3.821000 3. References for Fourier Optics and Optical Imaging 4. SPIE Digital library

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