半導體製程
Semiconductor Processings
學期
115-1
學分
3
學分
當期課號
536313
永久課號
ENMS30007
開課單位
前瞻半導體研究所、國際半導體產業學院博士班、國際半導體產業學院碩士班、材料科學與工程學系
授課教師
張翼
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週二 | 週四 |
|---|---|---|
5 13:20–14:10 | 半導體製程 EF104（光復） 2 節連堂 | |
6 14:20–15:10 | 半導體製程 EF104（光復） |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
包括半導體製程的演進、材料的特性的講解，以及半導體元件之製程流程及各項製程之解說。
先修科目
無
備註
無備註
教學方式
TAs: 黃少宏 (james189119@gmail.com), 陳禎元 (chenkevin1120@gmail.com)
評分方式
Final exam (40%), midterm exam (40%), Attendance (20%)
課程大綱
教師未提供此項資料
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | A practical guide to semiconductor processing 2026-09-08(二),2026-09-10(四) |
| 第 2 週 | Semiconductor materials and process chemicals 2026-09-15(二),2026-09-17(四) |
| 第 3 週 | Semiconductor properties 2026-09-22(二),2026-09-24(四) |
| 第 4 週 | Crystal growth 2026-09-29(二),2026-10-01(四) |
| 第 5 週 | Overview of wafer fabrication 2026-10-06(二),2026-10-08(四) |
| 第 6 週 | Contamination control 2026-10-13(二),2026-10-15(四) |
| 第 7 週 | Oxidation 2026-10-20(二),2026-10-22(四) |
| 第 8 週 | Midterm 2026-10-27(二),2026-10-29(四) |
| 第 9 週 | Basic patterning process-surface preparation to exposure 2026-11-03(二),2026-11-05(四) |
| 第 10 週 | Basic patterning-developing to final inspection 2026-11-10(二),2026-11-12(四) |
| 第 11 週 | Advanced Photolithography processes 2026-11-17(二),2026-11-19(四) |
| 第 12 週 | Diffusion 2026-11-24(二),2026-11-26(四) |
| 第 13 週 | Ion Implantation 2026-12-01(二),2026-12-03(四) |
| 第 14 週 | CVD 2026-12-08(二),2026-12-10(四) |
| 第 15 週 | Metallization 2026-12-15(二),2026-12-17(四) |
| 第 16 週 | Final Exam 2026-12-22(二),2026-12-24(四) |
教科書
參考書目：Microchip Fabrication, PETER VAN ZANT, McGRAW-HILL INTERNATIONAL EDITION
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